氯化氢干式净化过程平衡浓度计算及其应用
利用固体产物生成的能耗分析 ,在传统的热力学平衡公式中加入修正项 ,计算氯化氢气体在利用石灰类吸收剂对其进行干式净化过程中的平衡浓度 ,首次提出气固反应过程中反应气体的平衡浓度随着固体反应率的增大而上升的概念。计算结果表明 :吸收剂在达到一定的反应率以后 ,氯化氢的平衡浓度随温度的上升而下降。利用平衡浓度随反应率和温度的变化特征可以解释传统的热力学平衡式所不能解释的一些实验现象 ,并可以利用平衡浓度来预测利用钙基吸收剂干式净化焚烧炉排烟中氯化氢的净化效率和吸收剂用量。预测结果可以判断干式净化的使用范围、局限性和改进方向。化学级氯化氢产品生产装置于1993年投产,经山东省科委鉴定,主要用于医药中间体、农药及精细化学品制造业。电子级(VLSI)氯化氢产品生产装置于2003年投产,经北京市科委鉴定,主要用于半导体器件生产中单晶硅片的气相抛光、外延基座腐蚀及硬质合金制造。5.0N电子级(VLSI)氯化氢产品分别经国家标准物质研究中心和信息产业部专用材料质量监督检验中心抽样检验,纯度大于99.999%,总杂质含量小于5ppm,产品性能指标与国 际品牌相当。5.0N电子级(VLSI)氯化氢产品经国内外多家半导体重点企业连续大量在单晶硅片气相抛光和外延基座腐蚀工艺中广泛使用,制得的器件产品质量与国际知名品牌相当。超纯氯化氢产品生产装置于2005年投产,目前处于试销阶段,主要用作标准物质和科学研究。 |
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