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怎样生产出纯度较高的HCl气体
返回  打印  发布时间:2014-1-23 点击:1102

    高纯氯化氢是集成电路生产中硅片蚀刻,钝化和外延等工艺的重要材料,也可用于金属冶炼,光导通讯和科学研究等领域。随着大规模集成电路的发展,对氯化氢纯度的要求越来越高,对其中杂质的含量要求越来越苛刻,尤其要求严格限制碳氢化合物和碳氧化合物的含量,以防止硅片加工过程中c的形成。国内外对于制备高纯氯化氢的方法有很多。

    20世纪70年代以前电子工业用高纯氯化氢的制备一直是将浓硫酸滴加到浓盐酸中,将其中的水吸收掉,使过饱和的氯化氢气体析出 。20世纪8O年代以后制备方法发展到用浓硫酸与焙烘干的氯化钾反应,生成高纯氯化氢气体,用压缩机压入钢瓶中。即曼海姆法硫酸钾联产氯化氢气体日。此种方法生产的氯化氢气体纯度在99.9%(质量分数)以上。

    本公司秉承“诚信为本、客户至上”的经营理念,坚持“科技领先,质量第一”的经营方针。以质量为中心,以科技开发和科学管理为手段,积极创新,保持公司的技术研发活力,为客户提供一流的产品质量和技术服务。

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